聯(lián)系我們有關(guān)XRF的常見術(shù)語(yǔ)和問答（3）
和峰
和峰（Sum Peak）是由于2個(gè)光子正好同時(shí)撞擊探測(cè)器而產(chǎn)生的偽峰。這2個(gè)光子被探測(cè)器捕獲，被識(shí)別為1個(gè)光子，如果2個(gè)光子能量相同，則和峰是正常能量的二倍。在具有高元素濃度的XRF光譜中更突出，可以通過降低計(jì)數(shù)率來降低和峰。
逃逸峰
由于探測(cè)器中物質(zhì)（如Si）吸收光子的一些能量而引起的偽峰（E觀察到＝E入射 - E Si，E Si＝1.74 keV）。當(dāng)進(jìn)入探測(cè)器的X 射線光子能量高于探測(cè)器物質(zhì)的吸收限能量時(shí)，因該物質(zhì)對(duì)本身被激發(fā)的特征X 射線呈現(xiàn)出高度的透明，而導(dǎo)致這部分能量的逃逸，結(jié)果在能譜上除了入射X 射線的主峰外，還會(huì)在較低能量位置出現(xiàn)一個(gè)逃逸峰（Escape peak），在具有高濃度元素和低Z元素的XRF光譜中更突出。
逃逸峰高度約為主峰的1/ 1000 到2/100，通常僅在強(qiáng)度取對(duì)數(shù)坐標(biāo)的譜圖中明顯可見,而且原子序數(shù)大于30 的元素已基本不存在逃
光譜干擾
光譜干擾是在光譜中與待分析的元素的譜峰（感興趣區(qū)域）重疊的峰。如： K線和L線重疊：S的K線和Mo的L線，Cl的K和Rh的L線，As的K和Pb的L線等；相鄰元素重疊：Al和Si，S和Cl，K和Ca等。探測(cè)器的分辨率決定重疊程度。
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能量分辨率
能量分辨率（Energy resolution）是指，針對(duì)兩種不同能量的入射粒子，探測(cè)器所能夠測(cè)定最小的能量間隔。能量分辨率定義為FWHM(全能峰高度一半處的峰寬度)與峰位能量的比值，或直接用FWHM表示，但需指明峰為能量。它表征了探測(cè)器對(duì)不同能量射線的辨能力，因此是譜儀探測(cè)器最重要的性能指標(biāo)。
能量分辨率與產(chǎn)生一個(gè)電子一空穴對(duì)所需的能量、入射粒子的能量等有關(guān)，還受探測(cè)器材料的反向漏電流、結(jié)電容、溫度、電子學(xué)噪聲和反向偏壓等因素的影響。實(shí)際測(cè)得的能量分辨率與探測(cè)器輸出信號(hào)的產(chǎn)生、傳遞、轉(zhuǎn)換、放大與收集等過程有關(guān)。若有用信號(hào)越強(qiáng)，干擾因素越弱，則能量分辨率越好。
基體效應(yīng)
基體（Matrix）是樣品中不包括分析元素本身的其他組成。
基體效應(yīng)（Matrix Effects）就是樣品的基本化學(xué)組成和物理化學(xué)狀態(tài)差異對(duì)分析線強(qiáng)度的綜合影響。
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